三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,下列有关该反应的说法正确的是( )
A.NF3只是氧化剂 B.3mol NF3反应转移的电子数为4mol
C.还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,下列有关该反应的说法正确的是( )
A.NF3只是氧化剂 B.3mol NF3反应转移的电子数为4mol
C.还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
D