在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的磷离子P+和P3+,经电压为U的

在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的磷离子P+P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里、有一定宽度的匀强磁场区域,如图所示。已知离子P+在磁场中转过θ=30°后从磁场右边界射出。在电场和磁场中运动时,离子P+P3+(  )

A.在电场中的加速度之比为1∶1

B.在磁场中运动的半径之比为∶1

C.在磁场中转过的角度之比为1∶2

D.离开电场区域时的动能之比为13

答案

【解题指南】解答本题可按以下思路进行:

(1)正离子在电场中,由于电场力的作用做加速运动;

(2)正离子在磁场中,洛伦兹力提供向心力,做圆周运动。

【解析】BCD。磷离子P+P3+的质量相等,在电场中所受的电场力之比为13,所以加速度之比为13,A项错误;离开电场区域时的动能之比为13,初速度可忽略的磷离子P+P3+,经电压为U的电场加速后,由动能定理可得,离开电场区域时的动能之比为它们的带电量之比,13,D项正确;在磁场中做圆周运动时洛伦兹力提供向心力qvB=m,可得r=,==,B项正确;P+在磁场中的运动半径为R,由几何知识可得磁场的宽度为R,P3+的半径为R,由几何知识可得P3+在磁场中转过的角度为60°,P+在磁场中转过的角度为30°,所以磷离子P+P3+在磁场中转过的角度之比为12,C项正确。

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