电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废

电子工业中用过量的FeCl₃溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液．由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl₃•6H₂O）的步骤如下：

Ⅰ．在废液中加入过量铁粉，过滤；

Ⅱ．向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；

Ⅲ．合并Ⅰ和Ⅱ中的滤液，通入足量氯气；

Ⅳ．…，得到FeCl₃•6H₂O晶体．

（1）用FeCl₃溶液腐蚀铜箔的离子方程式是　．

（2）试剂A是　　．

（3）步骤Ⅲ中发生的离子方程式为　　．

（4）完成步骤Ⅳ需要用到的实验装置是　　（填字母）．

（5）若用FeCl₃•6H₂O晶体配制100ml  0.5mol/L的FeCl₃溶液

①用托盘天平称FeCl₃•6H₂O晶体，其质量是　　 g．

②实验时下图所示操作的先后顺序为　（填编号）．

蒸馏水

【考点】物质分离和提纯的方法和基本操作综合应用．

【分析】用过量的FeCl₃溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液，则废液中含FeCl₃、FeCl₂、CuCl₂．

Ⅰ．在废液中加入过量铁粉，则会与FeCl₃反应生成FeCl₂，与CuCl₂反应生成FeCl₂和Cu，过滤，则滤液中含FeCl₂；滤渣中含Cu和过量的Fe粉；

Ⅱ．I的滤渣中含Cu和过量的Fe粉，向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜，故加入的试剂A只能将铁反应掉，则A为盐酸，所得的溶液中含FeCl₂；

Ⅲ．I和II中的滤液中均为FeCl₂，通入足量氯气，反应生成FeCl₃；

Ⅳ．…，得到FeCl₃•6H₂O晶体．据此分析，

（1）铜与氯化铁反应生成氯化铁、氯化亚铁；

（2）试剂A只能将铁反应掉，不和铜反应，且不能引入杂质离子；

（3）III中的溶液中为FeCl₂，通入足量氯气，将FeCl₂反应生成FeCl₃；

（4）由FeCl₃溶液得FeCl₃•6H₂O晶体的方法是加热蒸发、浓缩结晶，然后过滤；

（5）若用FeCl₃•6H₂O晶体配制100ml  0.5mol/L的FeCl₃溶液，氯化铁物质的量=0.1L×0.5mol/L=0.05mol，则晶体物质的量为0.05mol，计算得到称量的质量，托盘天平称量到0.1g，配制溶液的步骤为：计算、称量、溶解、冷却、转移、洗涤转入、定容、摇匀等操作得到；

【解答】解：用过量的FeCl₃溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液，则废液中含FeCl₃、FeCl₂、CuCl₂．

Ⅰ．在废液中加入过量铁粉，则会与FeCl₃反应生成FeCl₂，与CuCl₂反应生成FeCl₂和Cu，过滤，则滤液中含FeCl₂；滤渣中含Cu和过量的Fe粉；

Ⅱ．I的滤渣中含Cu和过量的Fe粉，向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜，故加入的试剂A只能将铁反应掉，则A为盐酸，所得的溶液中含FeCl₂；

Ⅲ．I和II中的滤液中均为FeCl₂，通入足量氯气，反应生成FeCl₃；

Ⅳ．…，得到FeCl₃•6H₂O晶体．

（1）铜与氯化铁反应生成氯化铁、氯化亚铁，化学反应的离子方程式为：2Fe³⁺+Cu═2Fe²⁺+Cu²⁺，故答案为：2Fe³⁺+Cu═2Fe²⁺+Cu²⁺；

（2）试剂A只能将铁反应掉，不和铜反应，且不能引入杂质离子，故A为盐酸，故答案为：盐酸；

（3）III中的溶液中为FeCl₂，通入足量氯气，将FeCl₂反应生成FeCl₃，反应的离子方程式为：2Fe²⁺+Cl₂=2Fe³⁺+2Cl^﹣，

故答案为：2Fe²⁺+Cl₂=2Fe³⁺+2Cl^﹣；

（4）由FeCl₃溶液得FeCl₃•6H₂O晶体的方法是加热蒸发、浓缩结晶，然后过滤，故选ab，

故答案为：ab；

（5）①若用FeCl₃•6H₂O晶体配制100ml  0.5mol/L的FeCl₃溶液，氯化铁物质的量=0.1L×0.5mol/L=0.05mol，则晶体物质的量为0.05mol，需要称量的固体质量=0.05mol×270.5g/mol=13.525g≈13.5g，

故答案为：13.5；

②配制溶液的步骤为：计算、称量、溶解、冷却、转移、洗涤转入、定容、摇匀等操作得到，实验时下图所示操作的先后顺序为④⑥③⑤②①，

故答案为：④⑥③⑤②①；