电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）=SiF4（g

电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是：
SiO₂（s）+4HF（g）=SiF₄（g）+2H₂O（g）
ΔH（298K）=-94.0kJ・mol^-1
ΔS（298K）=-75.8J・mol^-1・K^-1
设ΔH和ΔS不随温度而改变，试求此反应自发进行的温度条件。

答案

此反应自发进行的最高温度为1240K。

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