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电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:SiO2(s)+4HF(g)=SiF4(g
电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:SiO2(s)+4HF(g)=SiF4(g
电子工业中清洗硅片上的SiO
2
(s)的反应是:
SiO
2
(s)+4HF(g)=SiF
4
(g)+2H
2
O(g)
ΔH(298K)=-94.0kJ・mol
-1
ΔS(298K)=-75.8J・mol
-1
・K
-1
设ΔH和ΔS不随温度而改变,试求此反应自发进行的温度条件。
答案
此反应自发进行的最高温度为1240K。
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